· 電解拋光可達鏡面級光澤，拋光后產(chǎn)品表面可達 Ra0.2~0.5μ,并且使表面生產(chǎn)鈍化層有效抗腐蝕能力。拋光效率高，質(zhì)量好，數(shù)分鐘內(nèi)可拋光至鏡面狀態(tài)?！?電解拋光消耗電流小，電壓低，電能消耗較傳統(tǒng)工藝低 1 倍以上· 拋光液使用時間長，易于維護管理，掌握好拋光液的比重即可很好的控制生產(chǎn)?！?電解拋光可以拋光機械拋光無法達到的金屬表面，例如凹坑、復(fù)雜零件、細絲、薄膜、網(wǎng)狀物體等?！?電解拋光能非常的效地去除觀毛刺，得到很好的平整度，且相對機械拋光能保持長久的光潔度與表面平整度。開槽方法：工藝條件 指標(biāo)范圍磷酸（含量 85%ρ1.69) 73%(WT)硫酸 (CP 級 98% ρ1.84) 24%(WT)KM0306 光亮劑 3%(WT)

  · 電解拋光可達鏡面級光澤，拋光后產(chǎn)品表面可達Ra0.2~0.5μ,并且使表面生產(chǎn)鈍化層有效抗腐蝕能力。拋光效率高，質(zhì)量好，數(shù)分鐘內(nèi)可拋光至鏡面狀態(tài)。

  · 電解拋光消耗電流小，電壓低，電能消耗較傳統(tǒng)工藝低1倍以上

  · 拋光液使用時間長，易于維護管理，掌握好拋光液的比重即可很好的控制生產(chǎn)。

  · 電解拋光可以拋光機械拋光無法達到的金屬表面，例如凹坑、復(fù)雜零、細絲、薄膜、網(wǎng)狀物體等。

  · 電解拋光能非常的效地去除觀毛刺，得到很好的平整度，且相對機械拋光能保持長久的光潔度與表面平整度。