哈爾濱方正高比表氫氧化鈣具有發(fā)達(dá)的孔隙，煙氣中的HCl和SO2排放標(biāo)準(zhǔn)可達(dá)l0mg/m3以下。能迅速完成以下反應(yīng)：Ca(OH)2＋SO2＝CaSO3＋H2O； Ca(OH)2＋2HCL＝CaCL2＋2H2O，其利用率可達(dá)85％以上，除此之外高比表面積氫氧化鈣還具有良好的流動性，在使用過程中不易賭塞管道。隨著我國經(jīng)濟(jì)發(fā)展，和環(huán)保指標(biāo)要求越來越嚴(yán)格，高比表面積氫氧化鈣應(yīng)用在電廠脫硫中將是今后趨勢。高比表面積氫氧化鈣具有的獨(dú)特性質(zhì)必將成為煙氣脫硫行業(yè)代替小蘇打和普通氫氧化鈣的 選擇！

高比表氫氧化鈣脫硫劑--高比表面積氫氧化鈣用于SDS干法脫硫中替代小蘇打，為您解決鈉基危廢難處理的難題高比表面積氫氧化鈣產(chǎn)品參數(shù)：氫氧化鈣含量（干基）≥85％，比表面積≥40，細(xì)度＞325目，含水量＜3％。 鈣基脫硫的優(yōu)勢： 1.＞40㎡/g的高比表面積氫氧化鈣具有多孔、哈爾濱方正當(dāng)?shù)馗呋钚?、哈爾濱方正當(dāng)?shù)胤稚⑿?、哈爾濱方正當(dāng)?shù)乩寐矢叩忍攸c(diǎn)，是普通氫氧化鈣2-3倍，高比表比普通氫氧化鈣增加了鈣硫接觸點(diǎn)，提高了鈣硫反應(yīng)效率，能夠達(dá)到小蘇打的脫硫效率。 2.無需經(jīng)過小蘇打磨機(jī)，可直接噴入煙氣管道（無揚(yáng)塵、哈爾濱方正當(dāng)?shù)毓?jié)省磨機(jī)設(shè)備成本、哈爾濱方正當(dāng)?shù)厝斯こ杀荆?3.小蘇打脫硫后，副產(chǎn)物為硫酸鈉、哈爾濱方正當(dāng)?shù)貋喠蛩徕c、哈爾濱方正當(dāng)?shù)貙儆谖U，較難處置。而鈣基脫硫后，副產(chǎn)物為硫酸鈣、哈爾濱方正當(dāng)?shù)貋喠蛩徕}，屬于一般固廢，可再利用于鋼廠、哈爾濱方正當(dāng)?shù)亟够瘡S、哈爾濱方正當(dāng)?shù)厮鄰S、哈爾濱方正當(dāng)?shù)亟ú膹S等，處理簡單無污染。