化學(xué)鍍銅技術(shù)起始于1947年，Narcus首先報道了化學(xué)鍍銅溶液化學(xué)。初始階段化學(xué)鍍銅液的穩(wěn)定性很差，溶液易自動分解，且施鍍范圍不能控制，所有與溶液接觸的地方都有沉積物。而真正意義上的商品化學(xué)鍍銅出現(xiàn)于20世紀(jì)50年代，隨著印制線路板(PCB)通孔金屬化的發(fā)展，化學(xué)鍍銅得到了早的應(yīng)用。 個類似現(xiàn)代的化學(xué)鍍銅溶液由Cahill公開發(fā)表于1957年，鍍液為堿性酒石酸銅鍍浴，甲醛為還原劑。現(xiàn)在，經(jīng)過50多年的開發(fā)研究，形成了相對完善的化學(xué)鍍的溶液化學(xué)知識以及工藝技術(shù)基礎(chǔ)，并建立了初步的基礎(chǔ)理論體系。

化學(xué)鍍銅是在有鈀等催化活性物質(zhì)的表面，通過甲醛等還原劑的作用，使銅離子還原析出?；瘜W(xué)鍍銅相對于電鍍銅的優(yōu)勢主要有:①基體范圍廣泛;②鍍層厚度均勻:③工藝設(shè)備簡單:④鍍層性能良好。

石油化工、儲油庫、發(fā)電廠、變電站、通訊基站、機(jī)場、網(wǎng)絡(luò)機(jī)房、鐵路、地鐵等場所的防雷接地工程。

能完全取代傳統(tǒng)氰化鍍銅工藝和光亮鍍銅工藝，適用于任何金屬基材:純銅丶銅合金丶鐵丶不銹鋼丶鋅合金壓鑄件、鋁丶鋁合金工件等基材上，掛鍍或滾鍍均可。

處理方法:合理選擇、使用光澤劑

2)陰極表面黏附著導(dǎo)電的粒

a.氯化物含量過多。當(dāng)鍍液中氯離子含量過多時，與Cu形成氯化亞銅沉淀，沉積在陰極表面上形成毛刺

b.鍍液中鐵離子含量過高，形成硫酸鐵沉淀，在陰極表面上是鍍層產(chǎn)生毛刺

c.鍍液中含有銻和砷與銅共沉積產(chǎn)生毛刺

處理方法: a.連續(xù)循環(huán)過濾鍍液，并保證過濾量(每小時2 ~ 5倍槽體積);

b.定期分析并及時調(diào)整鍍液成分，使溶液具有良好的導(dǎo)電性能;

c.采用小電流電解(0.1 ~ 0.3A/dm)，除去銻和砷雜質(zhì)