軋制無(wú)縫管的原料是圓管坯，圓管胚要經(jīng)過(guò)切割機(jī)的切割加工成長(zhǎng)度約為1米的坯料，并經(jīng)傳送帶送到熔爐內(nèi)加熱。鋼坯被送入熔爐內(nèi)加熱，溫度大約為1200攝氏度。燃料為氫氣或乙炔。爐內(nèi)溫度控制是關(guān)鍵性的問(wèn)題.圓管坯出爐后要經(jīng)過(guò)壓力穿孔機(jī)進(jìn)行穿空。一般較常見(jiàn)的穿孔機(jī)是錐形輥穿孔機(jī)，這種穿孔機(jī)生產(chǎn)效率高，產(chǎn)品質(zhì)量好，穿孔擴(kuò)徑量大，可穿多種鋼種。穿孔后，圓管坯就先后被三輥斜軋、連軋或擠壓。擠壓后要脫管定徑。定徑機(jī)通過(guò)錐形鉆頭高速旋轉(zhuǎn)入鋼胚打孔，形成鋼管。鋼管內(nèi)徑由定徑機(jī)鉆頭的外徑長(zhǎng)度來(lái)確定。鋼管經(jīng)定徑后，進(jìn)入冷卻塔中，通過(guò)噴水冷卻，鋼管經(jīng)冷卻后，就要被矯直。

2.冷拔（軋）無(wú)縫鋼管：圓管坯→加熱→穿孔→打頭→退火→酸洗→涂油（鍍銅）→多道次冷拔（冷軋）→坯管→熱處理→矯直→水壓試驗(yàn)（探傷）→標(biāo)記→入庫(kù)。

冷拔（軋）無(wú)縫鋼管的軋制方法較熱軋（擠壓無(wú)縫鋼管）復(fù)雜。它們的生產(chǎn)工藝流程前三步基本相同。不同之處從第四個(gè)步驟開(kāi)始，圓管坯經(jīng)打空后，要打頭，退火。退火后要用專(zhuān)門(mén)的酸性液體進(jìn)行酸洗。酸洗后，涂油。然后緊接著是經(jīng)過(guò)多道次冷拔（冷軋）再坯管，專(zhuān)門(mén)的熱處理。熱處理后，就要被矯直。鋼管經(jīng)矯直后由傳送帶送至金屬探傷機(jī)（或水壓實(shí)驗(yàn)）進(jìn)行內(nèi)部探傷。若鋼管內(nèi)部有裂紋，氣泡等問(wèn)題，將被探測(cè)出。鋼管質(zhì)檢后還要通過(guò)嚴(yán)格的手工挑選。鋼管質(zhì)檢后，用油漆噴上編號(hào)、規(guī)格、生產(chǎn)批號(hào)等。并由吊車(chē)吊入倉(cāng)庫(kù)中。

可根據(jù)用戶(hù)要求訂做各種材質(zhì)規(guī)格無(wú)縫鋼管，特殊厚壁無(wú)縫鋼管?？苫騻髡嫣崆跋滴夜?。

 

熱鍍鋅管是使熔融金屬與鐵基體反應(yīng)而產(chǎn)生合金層，從而使基體和鍍層二者相結(jié)合。熱鍍鋅是先將鋼管進(jìn)行酸洗，為了去除鋼管表面的氧化鐵，酸洗后，通過(guò)氯化銨或氯化鋅水溶液或氯化銨和氯化鋅混合水溶液槽中進(jìn)行清洗，然后送入熱浸鍍槽中。熱鍍鋅具有鍍層均勻，附著力強(qiáng)，使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。熱鍍鋅鋼管基體與熔融的鍍液發(fā)生復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，形成耐腐蝕的結(jié)構(gòu)緊密的鋅一鐵合金層。合金層與純鋅層、鋼管基體融為一體。故其耐腐蝕能力強(qiáng)。

冷鍍鋅管

冷鍍鋅管就是電鍍鋅，鍍鋅量很少，只有10－50g/m2，其本身的耐腐蝕性比熱鍍鋅管相差很多。正規(guī)的鍍鋅管生產(chǎn)廠家，為了保證質(zhì)量，大多不采用電鍍鋅（冷鍍）。只有那些規(guī)模小、設(shè)備陳舊的小企業(yè)采用電鍍鋅，當(dāng)然他們的價(jià)格也相對(duì)便宜一些。目前建設(shè)部已正式下文，淘汰技術(shù)落后的冷鍍鋅管，今后不準(zhǔn)用冷鍍鋅管作水、煤氣管。冷鍍鋅鋼管鍍鋅層是電鍍層，鋅層與鋼管基體獨(dú)立分層。鋅層較薄，鋅層簡(jiǎn)單附著在鋼管基體上，容易脫落。故其耐腐蝕性能差。在新建住宅中，禁止使用冷鍍鋅鋼管作為給水管。

硫酸鹽鍍鋅優(yōu)點(diǎn)是電流效率高 ，沉積速率快，這是其他鍍鋅工藝無(wú)可比擬的。由于鍍層結(jié)晶不夠細(xì)致，分散能力與深鍍能力較差，因而只適于幾何形狀簡(jiǎn)單的管材與線材等電鍍。硫酸鹽電鍍鋅鐵合金工藝對(duì)傳統(tǒng)的硫酸鹽鍍鋅工藝進(jìn)行優(yōu)化，只保留了主鹽硫酸鋅，其余組分均舍棄。在組成新工藝配方中又加入適量鐵鹽，使原來(lái)的單金屬鍍層形成鋅鐵合金鍍層。工藝的重組，不僅發(fā)揚(yáng)了原工藝電流效率高、沉積速率快的優(yōu)點(diǎn)，還使分散能力與深鍍能力得到很大改善，過(guò)去復(fù)雜件不能鍍，現(xiàn)在簡(jiǎn)單與復(fù)雜件都能鍍，而且防護(hù)性能比單金屬提高3～5倍。生產(chǎn)實(shí)踐證明，用于線材、管材的連續(xù)電鍍，鍍層晶粒比原來(lái)的更細(xì)化、更光亮，沉積速率快。2～3 min內(nèi)鍍層厚度達(dá)到要求。