· 電解拋光可達鏡面級光澤，拋光后產品表面可達 Ra0.2~0.5μ,并且使表面生產鈍化層有效抗腐蝕能力。拋光效率高，質量好，數分鐘內可拋光至鏡面狀態(tài)。· 電解拋光消耗電流小，電壓低，電能消耗較傳統(tǒng)工藝低 1 倍以上· 拋光液使用時間長，易于維護管理，掌握好拋光液的比重即可很好的控制生產?！?電解拋光可以拋光機械拋光無法達到的金屬表面，例如凹坑、復雜零件、細絲、薄膜、網狀物體等?！?電解拋光能非常的效地去除觀毛刺，得到很好的平整度，且相對機械拋光能保持長久的光潔度與表面平整度。開槽方法：工藝條件 指標范圍磷酸（含量 85%ρ1.69) 73%(WT)硫酸 (CP 級 98% ρ1.84) 24%(WT)KM0306 光亮劑 3%(WT)

影響電解拋光的因素：
一 電解拋光液是直接影響電解拋光的因素主要原因：
1擴散系數小，黏度大。
2易與溶解下來的金屬離子形成擴散速度更小的多核聚合配合物。本身是一種黏膜稠的酸。
二電解拋光電流密度和電壓，通常應控制在極限擴散電流控制區(qū)，中陽極極化曲線的平坦區(qū)，
2高于此電流密度區(qū)時，因有氧氣析出，表面易出現(xiàn)氣孔、麻點或條紋。
三 溫度，溫度對陽極極化曲線的影響曲線。
1 電解液溫度升高，極限擴散電流逐漸增大，當溫度高于90度時，表面拋光的起始電流密度大，陽極銅片的溶解速度過快，因而銅片表面易生成點狀或條狀腐蝕。
2當電解液溫度低于60度時，傳質過程慢，拋光的起始電流密度太低，陽極銅片的溶解速度慢，溶解下來的離子不能很快地擴散開來，容易在陽極表面形成CU和HEDP的多核配合物，使用權銅片表面出現(xiàn)沉淀物膜槿麻點。高頻整流機，電解拋光設備，廠家直銷