在自然界主要是以重晶石礦形式存在，分子式為BaSO4,純顯白色、有光澤，由于雜質(zhì)及混入物的影響也常呈灰色、淺紅色、淺等，結(jié)晶情況相當(dāng)好的還可呈晶體出現(xiàn)。的硬度為3-3.5(莫氏)，比重為4.3-4.7，具有比重大、硬度低、吸收X射線、性脆的特點(diǎn)。

  化學(xué)性質(zhì)，不溶于水和，無(wú)磁性和性。防射線水泥、砂漿及混凝土正是利用具有吸收X射線的性能，鋇砂漿和鋇混凝土，用以代替金屬鉛板核反應(yīng)堆和建造科研、防X射線的建筑物。用于裝修內(nèi)外墻可有效屏蔽X射線和Y射線,能有效防止阻隔射線外泄,主要用于牙科、X光室、CT室等需要防XY射線要求的場(chǎng)所裝修使用。

  施工在基層砼結(jié)構(gòu)施工時(shí)，盡量利用較大粒徑的碎石，高標(biāo) 的商品砼，以****砼的容量，澆搗時(shí)做到振搗均勻、密實(shí)，期內(nèi)不要脫水，拆模時(shí)盡量對(duì)砼的影響，防止拆模發(fā)生細(xì)裂縫射線直穿外潑。機(jī)房砌體施工機(jī)房砌體應(yīng)采用紅磚實(shí)砌，并建議用水泥砂漿砌筑，砌筑時(shí)****墻體的平整度、垂直度做到橫平，****砌筑砂漿的密實(shí)度、飽滿度在90%以上，否則容易射線直穿及材料的浪費(fèi)。

  射線防護(hù)施工暗室施工應(yīng)****暗室通風(fēng)，但也要********無(wú)光線，暗室水槽****采用瓷質(zhì)，防止氧化及化學(xué)藥水的污蝕，但也可用不銹鋼等材料。粉刷涂料前加打底操（用水泥砂漿），以涂料的用料造成不必要的浪費(fèi)。在磚砌鋪設(shè)，防止開(kāi)裂造成脫落及射線外漏，因?yàn)橐坏┝验_(kāi)修補(bǔ)將非常困難，并會(huì)有一條小裂縫，且消費(fèi)材料

鉛玻璃分為兩種：1、普通，屏蔽效果好，但是透光率一般在60%80%，對(duì)視覺(jué)感覺(jué)還是稍有影響，可分辨顏色為白、紅、橙、黃、綠、青、藍(lán)、紫等，反光率一般小于8%。經(jīng)過(guò)特殊表面強(qiáng)化處理，抗沖擊性較強(qiáng)，表面應(yīng)力大于400MPa2、氧化鉛玻璃，主要成分為sio2，摻雜PbO，一般含量為20%左右，部分含有三氧化二硼，透光率一般為98%以上，較脆，比重較大。

  從X線管陽(yáng)極靶發(fā)出的X線稱為原發(fā)X線，原發(fā)X線遇到物體，如空氣、檢查床及后，會(huì)產(chǎn)生另一種向各方向散射的射線，稱為散射X線，亦稱散射線。散射線能量低，穿透性較原發(fā)X線弱，但時(shí)被體表組織吸收，過(guò)量能造成放射損傷。

  關(guān)于鉛房若受照劑量過(guò)大會(huì)對(duì)產(chǎn)生較大危害，為了射線，根據(jù)射線曝射量與距離平方成反比這一原理可以采用射線源與之間距離的辦法來(lái)防護(hù)，稱為距離防護(hù);同時(shí)還要采用對(duì)射線有阻擋作用的各類材料?。

  鉛房在的使用中室感應(yīng)門(mén)的機(jī)箱中會(huì)積累很多污漬，會(huì)感應(yīng)門(mén)在啟動(dòng)中有出現(xiàn)機(jī)械運(yùn)行不佳的情況。因而我們對(duì)感應(yīng)門(mén)機(jī)箱就要進(jìn)行日常的慣例清潔，此間**重要的是要在關(guān)閉電源的情況下進(jìn)行工作，以確保工作的性。

  結(jié)構(gòu)合理室感應(yīng)門(mén)在運(yùn)行時(shí)各部件間的配合十分重要，所以在時(shí)還要對(duì)導(dǎo)軌和地輪進(jìn)行定期及仔細(xì)檢查，從而找出室感應(yīng)門(mén)存在故障的隱患。室感應(yīng)門(mén)可以阻擋外界空氣流入到處理過(guò)后的室無(wú)菌，同時(shí)也能為醫(yī)護(hù)人員的通行提供方便，防止對(duì)進(jìn)度造成外界影響。

  鉛房何一個(gè)附件掉落在的身上。這些附件用以修正有用射線束的形狀，5)應(yīng)當(dāng)配置不同類型的輻射劑量測(cè)定儀，測(cè)定射束特征，或測(cè)**體表劑量。6)在有用射束的出射部位放且膠片盒，以驗(yàn)證有用射線束照射部位的準(zhǔn)確性。

  7)用非單一射束時(shí).須配里3個(gè)或4個(gè)聚焦光源或激光束裝置。光束為水平光束，另一個(gè)或兩個(gè)聚焦光束為垂直光束，兩維聚焦光束相交在同一中心，定位照射野。8)應(yīng)設(shè)計(jì)并制作適于不同體型的石膏背心和軀干石膏托，中因變動(dòng)所致靶外正常組織或受到有用射束的照射。