射線防護(hù)施工涂料天棚粉刷****上一層的樓面，這樣不容易由于樓板的振動或粘結(jié)不牢而脫落。注意裝修時的釘眼穿透粉刷層或鉛板層。涂料在2.2mm以上可以相對粉刷厚度（但施工時有一定難度），以成本，具體根據(jù)廠方要求及業(yè)主的布置來確定。

  射線防護(hù)施工暗室施工應(yīng)****暗室通風(fēng)，但也要********無光線，暗室水槽****采用瓷質(zhì)，防止氧化及化學(xué)藥水的污蝕，但也可用不銹鋼等材料。粉刷涂料前加打底操（用水泥砂漿），以涂料的用料造成不必要的浪費(fèi)。在磚砌鋪設(shè)，防止開裂造成脫落及射線外漏，因?yàn)橐坏┝验_修補(bǔ)將非常困難，并會有一條小裂縫，且消費(fèi)材料。

  取酸中溶解物項(xiàng)下遺留的殘?jiān)铀?/span>10ml攪拌后，用經(jīng)溶液（140)洗過的濾紙濾過，濾液加稀0.5ml，靜置30分鐘，不得發(fā)生渾濁。硫化物取本品約10.0g，依法檢査（附錄ⅧC)，醋酸鉛試紙不得變色。干燥失重取本品，在105℃干燥至恒重，減失重量不得過1.0%(附錄ⅧL)。

  重金屬取本品4.0g，加醋酸鹽緩沖液（pH3.5)4ml與水適量使成50ml，煮沸10分鐘后，放冷，加水使成50ml，濾過，取濾液25ml，依法檢查（附錄ⅦH****法），含重金屬不得過百萬分之十。鹽取本品2.0g，加水23ml與5ml，依法檢査（附錄ⅧJ****法），應(yīng)符合規(guī)定（0.0001%)。

  疏松度取本品5.0g，置50ml具塞量筒中（自筒底至****刻度處的距離應(yīng)為11塞，振搖1分鐘，使粉末均勻混懸，靜置15分鐘，混懸物的頂面不得下降至18ml的刻度以下。酸堿度取本品1.0g，加水20ml，置水浴中不斷攪拌5分鐘，濾過，濾液分為二等份：一份中加溴麝香草酚藍(lán)指示液1滴，不得顯藍(lán)色；另一份中加溴甲酚綠指示液1滴，應(yīng)顯藍(lán)色。

  酸中溶解物取本品10.0g，置燒杯中，加稀10ml與水90ml，煮沸10分鐘，加水補(bǔ)充蒸發(fā)的水分后，放冷，用經(jīng)溶液（140)洗過的濾紙濾過，初濾液如顯渾濁，應(yīng)重復(fù)濾過，取澄清濾液50ml，置水浴上蒸干，加2滴與熱水10ml，?。

鉛玻璃分為兩種：1、普通，屏蔽效果好，但是透光率一般在60%80%，對視覺感覺還是稍有影響，可分辨顏色為白、紅、橙、黃、綠、青、藍(lán)、紫等，反光率一般小于8%。經(jīng)過特殊表面強(qiáng)化處理，抗沖擊性較強(qiáng)，表面應(yīng)力大于400MPa2、氧化鉛玻璃，主要成分為sio2，摻雜PbO，一般含量為20%左右，部分含有三氧化二硼，透光率一般為98%以上，較脆，比重較大。

  從X線管陽極靶發(fā)出的X線稱為原發(fā)X線，原發(fā)X線遇到物體，如空氣、檢查床及后，會產(chǎn)生另一種向各方向散射的射線，稱為散射X線，亦稱散射線。散射線能量低，穿透性較原發(fā)X線弱，但時被體表組織吸收，過量能造成放射損傷。

  關(guān)于鉛房若受照劑量過大會對產(chǎn)生較大危害，為了射線，根據(jù)射線曝射量與距離平方成反比這一原理可以采用射線源與之間距離的辦法來防護(hù)，稱為距離防護(hù);同時還要采用對射線有阻擋作用的各類材料?。

  鉛房在的使用中室感應(yīng)門的機(jī)箱中會積累很多污漬，會感應(yīng)門在啟動中有出現(xiàn)機(jī)械運(yùn)行不佳的情況。因而我們對感應(yīng)門機(jī)箱就要進(jìn)行日常的慣例清潔，此間**重要的是要在關(guān)閉電源的情況下進(jìn)行工作，以確保工作的性。

  結(jié)構(gòu)合理室感應(yīng)門在運(yùn)行時各部件間的配合十分重要，所以在時還要對導(dǎo)軌和地輪進(jìn)行定期及仔細(xì)檢查，從而找出室感應(yīng)門存在故障的隱患。室感應(yīng)門可以阻擋外界空氣流入到處理過后的室無菌，同時也能為醫(yī)護(hù)人員的通行提供方便，防止對進(jìn)度造成外界影響。

  鉛房何一個附件掉落在的身上。這些附件用以修正有用射線束的形狀，5)應(yīng)當(dāng)配置不同類型的輻射劑量測定儀，測定射束特征，或測**體表劑量。6)在有用射束的出射部位放且膠片盒，以驗(yàn)證有用射線束照射部位的準(zhǔn)確性。

  7)用非單一射束時.須配里3個或4個聚焦光源或激光束裝置。光束為水平光束，另一個或兩個聚焦光束為垂直光束，兩維聚焦光束相交在同一中心，定位照射野。8)應(yīng)設(shè)計(jì)并制作適于不同體型的石膏背心和軀干石膏托，中因變動所致靶外正常組織或受到有用射束的照射。